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ESD基础概念与设计原则
ESD基础概念与设计原则 📚 Voldman ESD 补充：本页基于 ESD: Circuits and Devices Ch.1，系统介绍 ESD 基础概念、历史演进、17 条核心设计原则和 ESD 缺陷机制分类。与 IC电磁兼容建模技术 的模型参数层面不同，本页聚焦 ESD 的物理本质、设计方法论和失效模式分类。 前后关系 前置知识： CMOS工艺与器件 — CMOS 工艺基础 pn结电流电压特性与击穿 — pn 结物理 MOS晶体管模型与特性 — MOSFET 器件基础 本书内部链条： ESD基础概念（本文）→ ESD测试模型与系统级模型 — ESD 模型参数 → ESD时间常数体系 ...
CMOS工艺与器件
CMOS 工艺与器件 CMOS（互补金属-氧化物-半导体）技术是当今绝大多数集成电路的工艺基础。CMOS 在同一芯片上同时提供 NMOS 和 PMOS 晶体管，具有静态功耗极低的优点。对于模拟电路，CMOS 提供高输入阻抗的 MOS 管、高质量的开关和电容、以及与数字电路单片集成的能力。理解 CMOS 工艺的制造流程、器件特性、无源元件和闩锁效应，是现代模拟 IC 设计的基本素养。本文基于 Gray §2.8-§2.10 提炼。 前后关系 前置知识： IC制造基础工艺（§2.2）— 氧化、光刻、多晶硅、离子注入 MOS晶体管模型与特性（§1.5-§1.6）— MOS 器件电特性 短沟道效应与弱...