Ivanov OpAmp Ch5: 输入级设计

输入级决定OpAmp的噪声和精度特性。本章系统分析轨到轨输入级的恒定gm技术、CMRR/PSRR提升方法、多种修调(Trimming)技术以及输入保护电路设计。本文基于Ivanov & Filanovsky (2004) Ch.5提炼。


前后关系

前置知识:

本书内部链条:

  • Ch.5(本文)→ Ch.6(中间级)→ Ch.7(输出级)→ Ch.8(特殊功能)→ Ch.9(设计实例)
  • Ch.3偏置→ Ch.5输入级偏置对失调修调的影响
  • Ch.4 gain boost→ Ch.5 cascoded输入级

外部关联:


§5.0 输入级概述

输入阻抗四分类

电压输入OpAmp的输入级可按输入阻抗分为4种类型:

类型差分阻抗共模阻抗应用
1高高工业主流——差分对输入
2高低—
3低高高速视频OpAmp(共栅输入)
4低低Norton放大器(已淘汰)

输入级关键参数

小信号:跨导gm、输出电阻、寄生输出电容 大信号:gm对差分输入电压的依赖性、输出电流限制、差模/共模输入电压范围 误差参数:失调电压Voff、温漂dVoff/dT、CMRR、PSRR、闪烁噪声、高频噪声、输入偏置电流

CMOS输入级设计要点

要求设计对策
低失调和闪烁噪声大输入器件面积 (WL),Voff = Vmtch/√(WL)
低高频噪声尾电流越大越好(10-40% Iq)
尾电流设计通常为Iq的第二大贡献者(仅次于输出级)
工作区弱反型(gm≈I_D/2V_T,类似BJT)
输入器件尺寸最宽最短,弱反型操作

CMOS vs BJT输入级对比

参数CMOSBJT
闪烁噪声大(表面效应),∝1/(WL)小
输入偏置电流极小(ESD漏电,高温5-10nA)大(β有限)
Voff温漂与失调的相关性不相关(10μV/°C常见)成正比(修调可降低温漂)
机械应力敏感度PMOS≈PNP为NMOS≈NPN的1/3类似

§5.1 轨到轨输入级与恒定gm

带宽稳定性要求

OpAmp带宽 GBW = gm/CM,CM工艺变化可达10%。gm变化应控制在相同范围。

gm匹配偏置(§3.2):输入级gm变化由偏置核心电阻工艺变化决定(≈10%)。

互补NMOS/PMOS差分对(Fig. 5-1)

最流行的R-t-R输入级由NMOS和PMOS差分对并联加尾电流控制电路构成。

恒定gm原理(弱反型):MOS在弱反型的gm∝I_D → 保持尾电流之和恒定即可保持总gm恒定。

最小电源电压:VgsPMOS + VgsNMOS + 2Vsat ≈ 1.8-2.2V。

1.8V改进型(Fig. 5-2):PMOS体偏置→VTH降低200-300mV。

gm波动补偿(Fig. 5-3)

强反型下电流转移可能导致gm尖峰高达40%。Fig. 5-3的补偿电路通过复制PMOS尾电流和跨导线性最小选择电路,将gm变化控制在<5%。

切换效应

PMOS/NMOS切换会改变噪声特性和摆率行为,并引起几mV的失调变化。正常操作中通常只用PMOS对,NMOS对用于防止启动/瞬态时的条件不稳定。

自举尾电流源(单输入对方案)

单差分对+自举电压源(片内电荷泵)实现R-t-R,避免切换点问题[39]。电荷泵纹波需极小(否则泄漏到输出),频率最好>GBW以便OpAmp自身滤波。


§5.2 CMRR/PSRR提升

系统性方法

从次稳压偏置核心(§3.5)开始 → 高输出阻抗电流镜分配电流 → 共源共栅管短窄 → 旁路电容在共源共栅栅极 → 输入对共源共栅 + 专用反馈环路稳定Vds。

尾电流源改进(Fig. 5-4)

在Fig. 3-14基础上添加电流输入放大器M5,增益提升M3/M4,保持M0/M1漏电压相等 → 输出电流变化仅由M3/M4对失调电压决定。

输入对共源共栅(Fig. 5-5, 5-6)

原理:在”温室条件”下工作——恒定尾电流、恒定Vbs、稳定Vds。

结构CMRR特点
经典共源共栅(Fig. 5-5a)—VdsM0,M1随共模变化
有源反馈共源共栅(Fig. 5-5b)100-120dB两个独立反馈环路A1,A2稳定Vds,同时提供gain boost

CMOS实现(Fig. 5-6):

  • 弱反型输入对:Vds只需4-5VT
  • 共源共栅管M2/M3:面积可小(不贡献噪声),但引入极点
  • 反馈环路A1/A2降低M2/M3源端阻抗 → 改善高频性能
  • 使用I2/2电流源替代电流镜 → 消除镜像延迟

体电压控制(Fig. 5-7)

正偏V1→VgsM0,M1↑,负偏V2→VgsM2,M3↓ → 单电源输入能力+>100dB CMRR [59]

高频PSRR

由整体补偿方案决定(不依赖输入级)。增强型Miller补偿(Fig. 4-12b/c)或单级OpAmp结构可大幅改善高频纹波抑制。


§5.3 修调技术

五种修调技术对比

技术工艺要求所需电流可封装后修调缺点
齐纳击穿(Zener-zapping)任何含齐纳的工艺A级否(晶圆级)面积大、热波效应
金属熔丝(Fused link)任何工艺A级否同上
激光修调额外钝化层无否需开钝化窗、耐气候性降低
多晶硅熔丝(Poly fuse)标准CMOS20-40mA(片内晶体管可提供)是—
EPROM/Flash额外光罩—是成本高,适用于已有闪存的系统

多晶硅熔丝(Poly fuse)(Fig. 5-12)是现代CMOS OpAmp最有吸引力的方案——无需额外工艺步骤,20-50比特足以存储失调和温漂修调信息。

常见电流传感器(Fig. 7-7)

类型实现特点
(a) Vbe检测BJT单调函数
(b) Vgs检测MOS单调函数
(c) 匹配晶体管传感器MOS/BJT精确电流比
(d) 源级退化传感器加Rs降低传感器功耗
(e) 总线电阻直接测量R1+R直接

§5.4 失调与温漂修调

六种方法(Fig. 5-13)

方法操作优点缺点
1. 连接/断开支路输入管源熔丝/激光直接调整Vgs需互补开关(轨到轨输入)
2. 切换支路输入管漏熔丝只需单类型开关—
3. 调整电流镜退化电阻激光/熔丝/齐纳一种常用CMOS开关Ron使精度受限
4. 切换负载电流源栅极熔丝/齐纳——
5. 切换负载电流源漏极MOS开关只需单类型管—
6. 加可调电流源—灵活—

CMOS温漂特点

  • Voff与温漂不相关——修调失调不能改善温漂
  • 典型温漂10μV/°C
  • 正确设计下,温漂在110-120°C以下几乎恒定
  • 新方法[15, 62]:使用两次温度测试消除主要线性分量 → 0.5-1μV/°C(box法),无需芯片ID

§5.5 输入保护

CMOS输入保护

防护类型方法
ESD(人体/机械/组合模型)边沿触发SCR、二极管+SCR组合(Fig. 5-15)、R-NMOS网络(Fig. 5-16)
闩锁(Latch-up)保护环、间距控制、版图布局
栅氧击穿(输入过压)电阻+箝位(Fig. 5-18)
超出指定共模范围添加低质量辅助R-t-R输入级

ESD注意事项:

  • ESD保护结是大面积pn结 → 大漏电流(高温显著)、大寄生电容
  • 单阱工艺中NMOS漏极不能直接接VDD线(Fig. 5-17)

双极输入保护

防护类型方法
ESD更简单(击穿不造成不可逆损伤,只要不过热)
过压保护类似CMOS但电阻应尽量小(基极电流→噪声)
相位反转防止(Fig. 5-19)输入共模低于负轨时,并行输入级Q5-Q8接管输出

关键公式汇总

公式说明
σ(Voff) = Vmtch/√(WL)MOS输入对失调匹配
GBW = gm/CMOpAmp带宽
gm(MOS,弱反型) ≈ I_D/(2V_T)弱反型跨导
ω_t = gm/CM单位增益带宽
V_off温漂(双极) ∝ V_off双极修调可降温漂
V_off温漂(CMOS) ≈ 10μV/°CCMOS与Voff不相关

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