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纳米CMOS空间不可靠性与工艺变异
纳米CMOS空间不可靠性与工艺变异 本页面基于 Maricau & Gielen《Analog IC Reliability in Nanometer CMOS》(Springer, 2013) Ch.2 §2.2-2.3 全量内容。覆盖 CMOS 不可靠性起源、空间不可靠性分类（系统/随机）、Pelgrom 模型、RDF/LER/栅介质变异的物理机制与定量模型。 CMOS 不可靠性的起源 1960s：首次 IC 可靠性研究（IRPS 1962, Chicago） 1970s：主要失效原因——腐蚀、键合问题（“purple plague”：AuAl₂ 金属间化合物）、离子污染 这些均与...