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Binkley Ch7 — 优化方法扩展到小尺寸工艺
Binkley Ch7 — Extending Optimization Methods to Smaller-Geometry Processes 本章讨论如何将全书的反型系数设计方法扩展到更小尺寸的 CMOS 工艺以及新兴的非 CMOS 技术（有机薄膜 FET、碳纳米管 FET）。 §7.2 反型系数与工艺无关性 通用跨工艺特性 gm/ID vs VEFF 和 VDSsat vs IC 在所有 CMOS 工艺中呈现近通用行为： gm/ID vs VEFF：对所有工艺几乎相同，因为 gm/ID=2/VEFF（强反型）的基本关系是工艺无关的 VDSsat vs IC：VD...