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短沟道效应与弱反型
短沟道效应与弱反型 随着 CMOS 工艺特征尺寸不断缩小（进入深亚微米和纳米时代），长沟道 MOS 的平方律模型在许多实际设计中不再准确。速度饱和、迁移率退化、DIBL 等短沟道效应显著改变器件的 I-V 特性；同时，弱反型（亚阈值） 导电在低功耗模拟设计中日益重要。理解这些非理想效应是现代模拟 IC 设计的基本要求。本文基于 Gray §1.7-§1.8 和 §1.9 提炼。 前后关系 前置知识： MOS晶体管模型与特性（§1.5-§1.6）— 长沟道平方律模型作为比较基准 pn结耗尽区分析（§1.2）— 源/漏结耗尽区 本书内部链条： 短沟道效应与弱反型（本文，§1.7-§1.8）→ 单管...