此标签下有1条笔记。
双极IC工艺与器件结构
双极 IC 工艺与器件结构 双极集成电路是最早发展的 IC 技术，采用结隔离（junction isolation）将各个晶体管在芯片上互相隔离。尽管 CMOS 在数字和许多模拟应用中占主导地位，但双极工艺在超高速、低噪声、大电流驱动等应用中仍有不可替代的优势。理解双极工艺中 npn/pnp 晶体管的物理结构和寄生效应，是分析双极模拟电路的基础。本文基于 Gray §2.3-§2.5 提炼。 前后关系 前置知识： IC制造基础工艺（§2.2）— 扩散、外延、光刻等基础工艺 pn结耗尽区分析（§1.2）— 结隔离原理、耗尽电容 双极晶体管大信号特性（§1.3）— BJT 的电流-电压关系 本书内...