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Binkley Ch3 — MOS性能与反型系数（上）
Binkley Ch3 — MOS Performance vs ID, IC, L（上篇：工艺参数/IC/尺寸/偏置/小信号/增益） 本章是全书最核心的章节（约250页），涵盖从工艺参数到漏电流共12个维度的MOS性能表达式。上篇覆盖§3.2-§3.8：反型系数方法论、工艺参数、尺寸关系、偏置电压、小信号参数和本征增益。 §3.2 选择 ID/IC/L 的优势 三自由度解耦方法论 传统设计选择 ID、W、L，但 ID 和 W 的改变都会影响 IC，使优化方向模糊。Binkley 的方法将 ID、IC、L 作为独立、非耦合的设计自由度，W 由三者显式计算： W=I0⋅ICID⋅L...