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Binkley Ch2 — MOS全反型区设计
Binkley Ch2 — MOS Design from Weak through Strong Inversion 本章引入 MOS 全反型区设计的概念，对比双极与 MOS 晶体管的设计复杂度差异，推导弱反型→中反型→强反型的漏极电流和跨导表达式，并回顾已有的 EDA 工具和设计方法。 核心贡献 MOS vs 双极设计复杂度对比：双极晶体管只需选择集电极电流 IC（gm/IC=1/UT≈38.6V−1 恒定），而 MOS 晶体管需要选择漏极电流 ID、反型系数 IC 和沟道长度 L 三个独立自由度——这是 MOS 设计复杂度远高于双极的根本原因。 gm/ID 效率跨反型区统一...